上海雙旭TMP1000R/TMP2000R全自動(dòng)研磨拋光機(jī)對(duì)比介紹
產(chǎn)品參數(shù)對(duì)比
| 參數(shù)項(xiàng)目 |
TMP1000R |
TMP2000R |
| 研磨盤直徑 |
Φ200mm - Φ250mm |
Φ200mm - Φ300mm |
| 拋光盤直徑 |
Φ200mm - Φ250mm |
Φ200mm - Φ300mm |
| 樣品夾持?jǐn)?shù)量 |
通常為單頭或固定數(shù)量夾具 |
多頭或可擴(kuò)展夾具，容量更大 |
| 壓力調(diào)節(jié)范圍 |
0 - 50N (典型值，具體以型號(hào)為準(zhǔn)) |
0 - 80N 或更高 (典型值，具體以型號(hào)為準(zhǔn)) |
| 轉(zhuǎn)速范圍（研磨/拋光） |
50 - 600 rpm (參考值) |
30 - 800 rpm (參考值，范圍通常更寬) |
| 控制方式 |
微處理器控制，預(yù)設(shè)程序 |
高級(jí)微處理器或觸摸屏控制，程序更豐富，可存儲(chǔ) |
| 驅(qū)動(dòng)電機(jī)功率 |
較低 (例如 0.5KW) |
較高 (例如 0.75KW 或 1.1KW) |
| 外形尺寸及重量 |
相對(duì)緊湊輕便 |
相對(duì)更大更重，結(jié)構(gòu)更穩(wěn)固 |
| 主要應(yīng)用定位 |
常規(guī)實(shí)驗(yàn)室樣品制備，中等負(fù)荷 |
高強(qiáng)度、大批量樣品制備，研究級(jí)應(yīng)用 |
核心區(qū)別概述
TMP1000R： 為基礎(chǔ)或標(biāo)準(zhǔn)型全自動(dòng)研磨拋光機(jī)，滿足日常實(shí)驗(yàn)室的常規(guī)金相、材料樣品制備需求。具備基本的自動(dòng)壓力控制、轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)和定時(shí)功能，性價(jià)比較高。
TMP2000R： 為增強(qiáng)型或高性能型號(hào)。通常具有更大的盤面尺寸、更廣泛的壓力與轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)范圍、更強(qiáng)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)能力以及更先進(jìn)的程序控制功能（如多段編程、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等）。適用于要求更高、樣品量更大或材料更硬的制備任務(wù)。
使用注意事項(xiàng)
- 安裝環(huán)境： 設(shè)備需安裝在穩(wěn)固、水平的工作臺(tái)上，避免振動(dòng)。確保周圍環(huán)境清潔，遠(yuǎn)離腐蝕性氣體和液體。
- 電源與接地： 嚴(yán)格按銘牌要求連接電源電壓，并確保設(shè)備可靠接地，以防觸電和設(shè)備損壞。
- 研磨盤/拋光盤安裝： 安裝盤片前，確保主軸和盤片背面清潔無雜物。均勻擰緊固定螺栓，避免盤面傾斜或松動(dòng)。
- 夾具與樣品： 正確安裝樣品夾具，確保樣品夾持牢固、平整。避免樣品過高或負(fù)載超出設(shè)備額定壓力范圍。
- 磨料與潤滑： 使用推薦規(guī)格的研磨砂紙、拋光布及拋光液/潤滑劑。添加冷卻液或潤滑劑時(shí)，避免直接濺射到電機(jī)或控制面板上。
- 操作過程： 啟動(dòng)前檢查所有設(shè)置（壓力、轉(zhuǎn)速、時(shí)間）。運(yùn)行中勿強(qiáng)行打開防護(hù)罩或觸碰旋轉(zhuǎn)部件。異常噪音或振動(dòng)應(yīng)立即停機(jī)檢查。
- 清潔與維護(hù)： 每次使用后，及時(shí)清理盤面殘留磨料和碎屑。定期檢查傳動(dòng)部件，并按要求添加潤滑脂。長期不用應(yīng)斷開電源，并清潔干燥后遮蓋。
- 安全防護(hù)： 操作時(shí)建議佩戴防護(hù)眼鏡。設(shè)備防護(hù)罩為重要安全部件，非必要勿拆除，確保其有效工作。
- 型號(hào)差異： TMP2000R因能力更強(qiáng)，需特別注意其最大負(fù)載限制，避免為追求效率而超限使用。對(duì)于更復(fù)雜的編程功能，需詳細(xì)閱讀說明書或接受培訓(xùn)。
注：以上參數(shù)和注意事項(xiàng)基于通用型號(hào)特征總結(jié)，具體操作請(qǐng)務(wù)必參照上海雙旭提供的對(duì)應(yīng)型號(hào)的官方說明書。
