| 對比項目 |
DHRP-1 型(基礎(chǔ)實驗型) |
更高階型號(如DHRP系列其他型號) |
| 定位與用途 |
教學(xué)與基礎(chǔ)科研,側(cè)重于等離子體原理演示、基礎(chǔ)工藝實驗。 |
高級科研與小型生產(chǎn),可能集成更復(fù)雜的工藝控制(如基片加熱、偏壓電源)。 |
| 射頻功率 |
通常為≤1000W,滿足大多數(shù)基礎(chǔ)實驗需求。 |
可能提供更高功率(如2000W, 3000W),以獲得更高密度等離子體。 |
| 系統(tǒng)集成度 |
標(biāo)準(zhǔn)配置,滿足基本真空、進(jìn)氣、放電需求。 |
可能集成原位診斷接口(如Langmuir探針、光譜儀接口)、更復(fù)雜的樣品臺。 |
| 自動化程度 |
基本自動匹配與參數(shù)設(shè)置,手動操作環(huán)節(jié)相對較多。 |
更高程度的自動化工藝配方控制,數(shù)據(jù)記錄與分析功能更強。 |
| 腔體配置 |
標(biāo)準(zhǔn)石英腔體,結(jié)構(gòu)相對固定。 |
可能提供多種腔體選配(材質(zhì)、尺寸),模塊化設(shè)計更強。 |